真空磁控溅射镀膜，基本原理是在真空条件下，利用气体放电产生的高能等离子体在电磁场环境下轰击靶材，靶材原子经过物理或化学反应，在产品表面沉积一层金属或金属化合物的纳米薄膜，该膜层具有厚度均匀性好，附着力高，耐候性强等特点。